來源：網(wǎng)絡 2012-8-5 關鍵詞：工業(yè)自動化 極紫外線檢測 光學儀器　　據(jù)英國《自然》雜志網(wǎng)站7月25日(北京時間)報道，芯片制造商英特爾公司表示，將向總部設在荷蘭的半導體設備制造商阿斯麥投資41億美元，其中10億美元專門用于極紫外線(EUV)光刻技術的研發(fā)，新技術有望讓晶體管的大小縮減為原來的1/4?！　∫粔K芯片能容納的晶體管數(shù)量每隔幾年就可以翻番，但這一趨勢目前似乎已到